薄膜制备设备
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OTF-1200X-50-II-4CV-PE-MSL带有预热系统的滑动PECVD -
OTF-1500X-III-4CV-PE-SL三温区1500℃ PECVD系统 -
OTF-1200X-S-II-R-4CV-PE1200℃等离子增强小型PECVD回转炉系统 -
OTF-1200X-4-NW生长纳米线的CVD炉 -
OTF-1200X-S-II-4CV-PE1200℃等离子增强HPCVD回转炉系统 -
TF-1200X-PESDFG-50双炉体滑动PECVD系统＆循环手套箱 -
OTF-1200X-III-R5-PECVD1200℃5英寸三温区等离子增强粉体回转炉系统 -
OTF-1200X-II-PEC41200℃等离子增强HPCVD回转炉系统 -
OTF-1200X-II-PE-RRW等离子增强卷对卷线材连续制备系统 -
OTF-1200X-II-PE-RR卷对卷石墨烯制备管式炉系统 -
OTF-1200X-II-4CV-PE-SL-UL滑动式双温区PECVD系统 -
OTF-1200X-50-PE-SL小型滑动PECVD管式炉系统 -
OTF-1200X-50-4CLV-PE4路质子混气管式PECVD系统 -
OTF-1200X-50S-PE小型PECVD管式炉系统 -
OTF-1200X-III-HVC1200°C三温区二通道混气高真空CVD系统 -
OTF-1200X-HVC1200°C二通道混气高真空CVD系统 -
OTF-1200X-4-III-9HV1200°C三温区九通道混气高真空CVD系统 -
GSL-1700X-HVC91700°C九通道混气高真空CVD系统 -
GSL-1700X-HVC1700°C二通道混气高真空CVD系统 -
OTF-1200X-5-III-SF1200℃三温区CVD系统 -
OTF-1200X-S25-II-SL1200℃1英寸双温区管式炉CVD系统 -
OTF-1200X-80-II-F3LV1200℃双温区开启式真空管式炉 -
OTF-1200X-80-I-F3LV1200℃单温区三通道混气CVD系统 -
OTF-1200X-S50-2F1200℃微型二通道混气CVD系统 -
GSL-1700X-F3LV1700℃单温区三通道混气CVD系统 -
GSL-1700X-III-F3LV1700℃三温区三通道混气CVD系统 -
OTF-1200X-80-III-F3LV1200℃三温区三通道混气CVD系统 -
VTC-100PA（加热型）真空旋转涂膜机
黄萍萍