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OTF-1200X-4-NW 生长纳米线的CVD炉

应用范围： OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3英寸. 在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热，然后进入 CVD 炉进行纳米线的生长, 可滑动的样品架使操作更为简单.

产品型号：OTF-1200X-4-NW

上架时间：2019-07-04

安装尺寸：1200(L)X450(W)X510(H)mm

重量：100kg

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OTF-1200X-4-NW是一种紧凑型CVD炉，专为生长各种纳米线而设计，基片最大3英寸. 在法兰的左侧装有一个小加热器，可对输入的气体、液体、固体进行预加热，然后进入 CVD 炉进行纳米线的生长, 可滑动的样品架使操作更为简单.

性能指标和基本配置
炉子和预加热器	● 紧凑型CVD炉是由OTF-1200X-4 单温区炉演变而来 : ● 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率，同时也可以延长仪器的使用寿命 ● 石英管：4.33" O.D x 4.05" I.D x 15" L 最高工作温度：1100ºC ● 右边带样品支架的法兰是滑动的，方便操作在加热器和CVD炉之间的法兰是预加热气体的通道，同时也起密封作用。 ● 在炉子左侧的小加热器是对输入CVD 炉的气体、液体、固体或混合物进行预加热 ● 1.2''O.D x 6''L SS 作为加热腔小加热器最高工作温度：600ºC ● 左边法兰具有密封和气体通道的作用。详细结构请看下图
加热区	● CVD 炉: 400mm ● 小加热器: 150mm
工作温度	CVD 炉: ● 最高工作温度: 1100°C ( < 2 hour ) ● 连续工作温度: 200~1000°C ● 最快升温和降温速度: 10°C/min 小加热器: ● 连续工作温度: 0~500°C ● 最快升温和降温速度: 10°C/min
温度控制	● CVD 炉和加热器: ● PID/自整定的数字控制，具有 30段可控程序 ● 热偶: K type ● 控温精度: +/- 1°C ● 可用计算机进行控制，相关硬件和软件如下（选配）
真空和密封法兰	● CVD 炉: 右法兰 ● 水冷避免O型圈融化(水冷机可选配） ● KF25 真空快接 (可与真空泵、波纹管、真空阀等连接） ● 可滑动使客户操作更简单：样品可快速送入和取出 ● 一个石英样品支架 ( 3"dia. )：与石英挡板滑动法兰连成一体 ● 左法兰 (在CVD 炉和小加热器之间):装有4个 1/4'' 卡套连结的通气管 ● 法兰上有两个独立 1/4''口，可单独将任何气体通入 CVD 炉 ● 一路 1/4'' 口将预热气体通入CVD 炉 ● 一路1/4''口将不加热的气体通入CVD 炉(在 CVD 炉内, 通过“T”型结构与加热气体汇合。)
额定电压	单相, 220V AC, 50/60 Hz,
额定功率	最大 3KW (要求20 A 空开)
外形尺寸	1200(L)X450(W)X510(H)mm
重量	100kg
质保期	电器部分保修一年. ( 耗材：炉管、O型圈、加热元件等不在保修范围内)
质量认证	CE Certified

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OTF-1200X-4-NW 生长纳米线的CVD炉（英文版操作视频）

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