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OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路质子混气管式PECVD系统

应用范围：为使化学反应能在较低的温度下进行，常利用等离子体的活性来促进反应，这种方法称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。加热炉设备的内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可提高设备的加热效率，同时也可延长设备的使用寿命。

产品型号：OTF-1200X-50-4CLV-PE

上架时间：2020-03-10

安装尺寸：2080mm*700mm*1520mm

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为使化学反应能在较低的温度下进行，常利用等离子体的活性来促进反应，这种方法称为等离子体增强化学气相沉积法（PECVD）。加热炉设备的内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层，可提高设备的加热效率，同时也可延长设备的使用寿命。

性能指标和基本配置
设备名称	4路质子混气管式PECVD系统—OTF-1200X-50-4CLV-PE
外形尺寸	长宽高 2080mm700mm1520mm
炉管规格	外径: 100mm 内径: 96mm×长: 1800 mm
加热炉主要参数	● 最高温度: 1200℃ ● 额定工作温度: 1100℃ ● 推荐升温速率:≤10℃/min ● 加热区长度: L总：440mm（双温区包括隔环）温区一：200mm 温区二：200mm ● 加热炉额定功率：3KW ● 滑动方式：电动控制 ● 滑动最大行程：600mm ● 电压：单相AC 208 - 240V, 50HZ
温控系统	● 欧陆EPC3000仪表 ● 模糊PID控制和自整定调节功能 ● 智能化24段可编程控制 ● 带过电流过电压保护漏电保护 ● 电气元件及电缆，冷压端子均符合UL认证标准 ● 控温精度: ±0.1℃ ● 控温：K型热电偶两根 ● 通讯协议：modbus RTU
软件控制	● 可视化运行状态监控 ● 温控系统，气路系统，真空系统，射频系统，滑动炉体，开合炉体，压力控制，全自动化， ● 数据记录、过程记录集成一体 ● 预制工作流程，一键自动运行 ● 具有恒压功能，可以设定气体流量和恒定压力 ● 压力控制：采用TRP-12（抽速3L/s）的双旋真空泵，在总进气量为100-150sccm，管内压力为 100-130pa，如总进气量高于150sccm时，请更换抽速更高的泵，测试为总进气量为1L/min（满足四路质量流量计全开状态时），使用VRD-60泵（抽速18L/s），最高真空为120-130pa（满足起辉条件）,可在任意供气量下设定任意气压值（该气压值需大于搭配泵体的最大真空值），气压值可自动稳定
新式快捷法兰	可方便快速取放物料
射频电源	● 500W射频电源 ● 0--500W可调（稳定性±1%） ● 射频频率：13.56MHZ ● 自动匹配风冷 ● 噪音＜50dB ● 输入电压：AC108-250V
供气系统	● 四通道质子流量计控制系统可实现气体流量的精确控制（精确度：±0.02%） ● 流量范围：一路0-100 sccm 二路0-200 sccm 三路0-200 sccm 四路0-500 sccm 注：接入供气系统的气源需搭配减压阀，将气压降至2mpa以下
真空系统	● 搭配TRP-12的双旋真空泵（抽速3L/s）（总进气量小于150sccm，该泵可以达到等离子发生真空度） ● 搭配TRP-60双旋真空泵（抽速10L/s）（总进气量1L/min，该泵可以达到等离子发生真空度） ● KF25卡箍及波纹管用于连接法兰与真空泵 ● 真空度可达10-²Torr
备注	注：采用氩气高于射频功率200w情况下，需特殊说明，设备需要特殊改造及测试，（有法兰过热情况）

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OTF-1200X-50-4CLV-PE 4路质子混气管式PECVD（英文版操作

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