实验设备

● 标配的石英腔体（也可选配金属腔体）方便观察（图1）
● 相比传统溅射仪，体积小巧，拆装方便（图2）
● 模块化设计，靶头，电源等多种可选，自由DIY（图3）
● 基台可旋转可加热
● 可溅射金属和氧化物。实验室已初步制备了 氧化锌、碲化铋、ITO、ATO、AU、Ag、Cu、Al、Mg、Sc等薄膜。

                  图1                             图2                               图3

● 输入电源：220V AC50/60Hz
● 设备功率：<1500W
● 靶台加热温度：500℃
● 样品台转速：0-10r/min
● 靶头可调倾角：0-25度
● 溅射腔体尺寸：278mm OD x 272mm ID x310mm H。
● 靶材尺寸要求：1英寸磁控溅射靶头Φ25.4mm ×（0.1-3）mm(厚度）
                           2英寸磁控溅射靶头Φ50mm ×（0.1-3）mm(厚度)
● 最高使用功率：1英寸磁控溅射靶头100W
                           2英寸磁控溅射靶头300W

● 设备配备三个直流射频通用靶头，1英寸2英寸尺寸可选。
● 仪器中安装有直径为50mm的不锈钢可旋转样品台，最高加热温度是500℃（图1）
● 配有300W自动匹配射频电源和500W的直流溅射电源（可自由选择）（图2）
● 设备上配1/4英寸进气口方便连接气瓶（图3）
● 配有靶头电动升降台（图4）
● 配有高纯石英密封罩（图5）

            图1                         图2                              图3                                 图4                      图5

700mm L x 770 mm W x 1900 mm H

CE认证