应用范围:GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品,有自动控制的样品台,就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理,保证处理样品表面的一致性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台(带有真空吸盘和控制盒)。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面,可处理的样品有单晶片,光学元件和塑料等,也可在常压下进行等离子增强气相沉积。
产品型号 :GSL-1100X-PJF-A
上架时间 :2019-09-04
安装尺寸:处理样品台尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H
等离子源尺寸: 406mm L x 508mm W x 230mm H
控制盒尺寸:330mm L x 305mm W x 152mm H
重量:55kg
GSL-1100X-PJF-A是等离子枪和可控制的样品台结合在一起的产品,有自动控制的样品台,就可使等离子枪按设定程序对样品表面进行更均匀涂覆和处理,保证处理样品表面的一致性和均匀性。此系统是由RF发生器、气体传输管、等离子枪头和X-Y移动的工作台(带有真空吸盘和控制盒)。此系统产生等离子束可在非真空和低温状态下活化和清洗样品表面,可处理的样品有单晶片,光学元件和塑料等,也可在常压下进行等离子增强气相沉积。
性能指标和基本配置 | |
---|---|
主要参数 |
● 工作环境:温度 < 42°C,湿度 ≤ 40℃RH |
RF发生器 |
● 输出频率:20-23kHz , 25KV |
输入气体气压,工作气体 |
● 40 PSI min.(0.055 Mpa) |
样品台和控制柜 |
● 配有可在X-Y轴移动的样品台,通过步进电机驱动,采用SBC控制盒控制 |
外形尺寸 |
处理样品台尺寸:560mm L x483mm W x 609mm H |
净重 |
55kg |
文献 |
请点击链接以了解更多关于AP-PECVD应用的信息:常压等离子体增强化学气相沉积(AP-PE-CVD)用于在低温下生长薄膜。 |
质量认证 |
所有电器元件(>24V)都通过UL/MET/CSA/CE认证,若客户出认证费用,本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证。 |
保修期 |
一年保修,终身技术支持。 特别提示: 1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。 2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 点击查看售后服务承诺书。 |
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