实验设备

● 真空腔体为直径6英寸的石英腔体，便于清洁和放入样品
● 安装有一个2英寸的样品台，并且样品台可以旋转，使所制薄膜更加均匀
● 采用钨丝篮作为发热源，最高温度可达到1500℃，并且配用专用氧化铝舟，可装入样品
● 精确控温：可设置30段升降温程序，控温精度为+/-1℃
● 气体流量端口和阀门内置用于腔室净化和CVD可能性

● 温度：最高1500℃ （1200℃以上＜1h）
● 建议升温速率：≤20℃/ min （需根据工艺调整）
● 热偶：B型或者S型热偶
● 电源：AC220V，50Hz   最大6KW

● 采用钨丝篮作为发热源，并且配有专用的氧化铝坩埚，热电偶安装在坩埚底部，以便于温度测量和控制
● 采用S型热电偶（工作温度为200℃-1500℃）
● 可选B型热电偶（工作温度为1200℃-1700℃）
● 安装有一个数显的温度控制器：可设置30段升降温程序，控温精度为+/- 1ºC
● 温度控制器的时间设置以秒为单位，建议将升温/降温速率限制在1200ºC以下0.3ºC/s（20ºC/ min），在1200 - 1500ºC限制到0.15ºC/s（10ºC/min）
● 仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚

● 仪器顶部安装有样品台，直径为Φ50mm，并设置有挡板，方便控制蒸发镀膜时间
● 样品台可旋转，增加镀膜均匀性
● 样品台和蒸发源之间的距离可以调节

● 进气接口为1/4NPS，可向真空腔体中通入惰性气体，对腔体进行清洗，也可通入反应气体，进行反应蒸发镀膜
● 进气口安装有一针阀，用于调节进气流量
● 程序控温型四坩埚蒸发镀膜仪-GSL-1700X-EV4
● 仪器中配有钨丝篮及氧化铝坩埚，并用户可额外选购钨丝篮及氧化铝坩埚

可选购一数显防腐真空计，测量范围为：3.8x10-5-1125Torr

● 可在本公司选购精密的石英振动薄膜测厚仪安装在溅射仪上，可实时监测薄膜的厚度，分辨率为0.10 Å
● LED显示屏显示，同时也输入所制作薄膜的相关数据
● 同时可选购反射光谱薄膜测厚仪--TFMS-LD

● 设备上有一KF25接口用于连接真空泵
● 采用涡旋分子泵真空可达1.0E-5Torr，极限真空度可达4.0E-6Torr
● 双极旋片真空泵或干泵，可使仪器真空腔体的真空度达到10-2Torr
● 真空度达到10-2torr时，可蒸发一些贵金属，参考材料金和铂，也可蒸发一些有机材料，可选购数显防腐真空计PCG-554(测量范围3.8x10-5 to 1125 Torr.)
● 高真空度可达1.0E-5Torr（采用涡旋分子泵），此时可蒸发对氧敏感的材料，参考材料Al. Mg, Li，分子泵上带有复合真空计（最高可测量真空度为1.0E-7Torr）
● 可在本公司选购各种真空泵和真空计

● 可在本公司选购各种真空泵和真空计

490mm*330mm*560mm

● 为了获得高真空度，可采用以下做法
（1）使用前要检查密封圈和法兰上是否有异物或划痕，并用酒精擦洗
（2）抽真空时，用外部加热装置将腔体烘烤到200℃，氧化铝坩埚预加热到500℃，保持2小时
● 此款蒸镀仪可以放入到手套箱里操作，用于蒸镀一些在常温下对氧气敏感的材料，比如金属Li等，可在本公司选购开启式手套箱VGB-6

所有电器元件（>24V）都通过UL / MET / CSA认证CE认证/
若客户出认证费用，本公司保证单台设备通过德国TUV认证或CAS认证