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PCE-22-LD 紫外臭氧清洗机

应用范围:PCE-22-LD是一款可加热的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEMTEM,紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别清洗手段,特别适合清除一些有机化合物,紫外灯主要发出两种波长的光:185nm254nm,其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭气,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效的清除有机化合物。

产品型号:PCE-22-LD

设备尺寸:约L550*W520*H335mm

重量:约30kg

上架时间:2024-04-16

版本号:V1.0

产品简述 产品详情 产品视频 留言咨询
       PCE-22-LD是一款可加热的紫外臭氧清洗机,其加热温度可达150℃。此款设备可用于清洗各种基片,为制作高质量的薄膜打好基础。特别适合移除光刻胶,改善表面润湿性,清洗SEM&TEM,紫外对聚合物改性等。紫外臭氧清洗提供了一种无酸、干燥对材料无损伤的原子级别清洗手段,特别适合清除一些有机化合物,紫外灯主要发出两种波长的光:185nm和254nm,其中185nm的光可把空气中的氧气变为臭气,254nm可以破坏化合物中的键(特别是碳碳键)。所以这两种波长的光组合可有效的清除有机化合物。
  功能特点
  • 仅室内使用;海拔高度5500英尺以内;
  • 温度范围:5-40℃;
  • 最大相对湿度80%,最高30.5℃,40℃线性降至50%相对湿度;
  • 主电源波动不超过额定电压的10%;
  • 污染等级2;臭氧水平(环境)测量<45ppb;
  • 可去除分子级别的污染物;
  • 可清洗MEMS器件;
  • 可清洗各种基片,如si,Ge,GaAs和各种氧化物单晶基片。
  技术参数
电源 单相AC220V±10%,频率:50Hz/60Hz,功率约1KW
工作环境 室内使用,温度:5~40℃,最大相对湿度80%,海拔5500英尺以内
腔体&样品台 不锈钢壳体
1

抽屉式样品台,以便放样取样
基片台尺寸:310mm*320mm
臭氧通风装置安装在腔体上
样品台与紫外灯的距离:20mm-40mm范围内可调
样品台可以加热,最高温度可达150℃
可设置8段升降温程序,控温精度为±1℃
照射设定时间:1min-9999min
触摸屏&加热 4.5英寸触摸屏控制加热和清洗功能
点击触摸屏上的“温控程序”即可进入程序设置界面,内置温控仪表采用PID方式调节,可设置30段升温程序,设备只显示8段升温程序,可根据实际要求进行添加
设备加热前需进行预热处理
排气口 直径为80mm的排气口安装在仪器后端
将铝波纹管与排气口连接,将臭氧排出到实验室外
橡胶管长度8米
1
紫外灯 UV灯管:
功率:210W
发出光的波长:254nm和185nm
照射区域:200*200mm
可以清洁直径最大为12英寸×35mm的晶体晶片
外形尺寸 约L550*W520*H335mm
重量 约30kg
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