应用范围:PCE-33是一款桌面式紫外(UV)臭氧清洗机,自动开/关样品门,可选加热样品台,可用于清洗各种基片来达到比较好的涂膜/镀膜效果,最大有效清洗面积300×300mm。此款设备特别适合移除基片上的光刻胶,改善润湿性,清洗钙钛矿太阳能电池基片,SEM&TEM样品,UV聚合物改性等。紫外臭氧清洗已被证明了是一种无酸性,干燥且无损伤地原子级别清洗手段,特别适合清除样品表面的有机物。设备上所用紫外灯管主要发出2种波长的紫外光185nm和254nm,其中185nm紫外光可把空气中的氧变为臭氧,254nm紫外光激活基片表面的有机物分子,两者结合可有效清除基片表面有机物。
产品型号:PCE-33
上架时间:2024-07-27
版本号:V1.2
功能特点 |
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技术参数 | |
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电源 | 单相AC220V±10%,频率:50Hz/60Hz,功率约950W |
UV灯 | 双波长汞灯 |
UV灯波长 | 184.9nm、254nm;(臭氧型双重波峰值) |
UV灯使用寿命 | 5000小时 |
UV灯罩区域 | 300mm*350mm |
可清洗基片尺寸 | MAX 12英寸,厚35mm |
时间设置 | 0.01s-99.9小时 |
腔体 |
不锈钢壳体 自动滑动抽屉样品仓 腔体内安装有臭氧排除装置 |
加热型样品台 |
面积L450mm*W450mm 支持最大样品厚度:40mm; 加热台最高温度可达150℃,程序控温 可设置30段温度段,控温精度±2℃ 最大加热速率:15℃/min 样品台和UV灯关之间的距离可调节:20~40mm 可选加热温度达到300℃,控温精度±0.1mm |
排气口 |
一个直径为75mm的排气口在设备后部 配有3米的柔性排气管道 |
设备应用 | 清洗Si基片,GaAs基片,石英和ITO玻璃;清洗各种氧化物单晶片,如蓝宝石,STO和LAO;清洗Au和Pt基片;轻金属材料表面氧化;活化聚合物材料;UV去除光刻胶;UV清洗LED显示屏等 |
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