太阳成集团tyc9728(中国)有限公司-官方网站

HVMSS-SPC-1-LD 1英寸高真空磁控溅射头

应用范围：HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

产品型号：HVMSS-SPC-1-LD

上架时间：2019-09-02

重量：1.36kg

产品简述产品详情产品视频留言咨询

HVMSS-SPC-1-LD是一款磁控溅射头，可安装直径为1英寸的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相匹配，以至于可以溅射各种靶材（如金属、陶瓷、磁性和非磁性靶材等）。而且高真空的结构设计，可提高镀膜质量。

性能指标和基本配置
特点	● 采用高质量的不锈钢和陶瓷材料制作 ● 采用电磁场的有元计算法来设计永磁体，以得到较高的磁场强度和均强场分布 ● 磁体表面涂有一层保护层，以防止冷却水的腐蚀，延长其使用寿命 ● 标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 ● 安装是采用标准真空接头，便于操作 ● 更换靶材较为简单，无需调整溅射头的高度 ● 配有一块铜靶
溅射头	● 溅射头的直径:46.3mm ● 所用靶的直径:1.0 ± 0.02"(25.4mm) ● 靶材的最大厚度: 1/8" (3mm) ● 磁环:NdFeB稀土永磁铁 ● 杆的直径: 3/4" O.D.
所需功率	● DC (最大) 250 W ● RF （最大）100 W
最大阴极溅射电流	3A
阴极溅射电流	200 - 1,000 V
可选压力范围	~1 mTorr 至1 Torr
溅射厚度均匀性图	● 注意：此图是采用磁控溅射得的到一个200nm的薄膜，所用靶材为1英寸的铜靶。薄膜是沉积在氧化的硅片上，实验参数为： ● 功率：直流150W ● 真空环境：10mTorr(Ar) ● 靶材与基片的距离：75mm
水冷却	● 所需水流量： 1/2 GPM ● 进水温度：<20 ℃ ● 水管接头：0.25" O.D快插头
接头	● 电路连接接头：标准的HN型接头，可与DC和RF电源相匹配 ● 本公司会赠送一高真空快速接头 ● 此快速接头的内径为0.75"，可将溅射头安装在真空腔体上，真空腔体上的安装孔直径为1英寸，真空腔体的壁厚不得大于1英寸
产品长度	14英寸（355.6mm)
产品重量	1.36kg
倾斜装置	● 溅射头相对于杆最大可倾斜+/- 45度 ● 倾斜装置上有刻度线，可观察到靶头倾斜的角度
可选配件	● 循环水冷机，流量为16L / min ，水箱容积为6L ● 本公司可提供各种配件可与HVMSS-SPC-1-LD配套，让客户自己搭建磁控溅射仪
应用	在真空腔体中HVMSS-SPC-1-LD磁控溅射头可制作各种薄膜，下面是一些应用： ● 薄膜涂覆 ● 半导体器件 ● 磁记录介质 ● 超导薄膜 ● 量子计算器件 ● MEMS ● 生物传感器 ● 纳米技术 ● 超晶格 ● 颗粒膜 ● 记忆合金 ● 组合薄膜沉积 ● 光学薄膜
保修期	一年保修，终身技术支持。点击查看售后服务承诺书。

暂无内容

留言咨询

			* 			产品型号：			 
			
不能为空

			* 			产品名称：			 
			
不能为空

			* 			访客姓名：			 
			
不能为空

			* 			访客手机：			 
			
手机号格式不对

			* 			访客 QQ：			 
			
必须是数字

			* 			电子邮箱：			 
			
E-mail格式不对

			* 			详细地址：			 
			
不能为空

			* 			留言内容：			 
			
不能为空