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VTC-16-PW 小型粉末PVD包覆系统

应用范围:VTC-16-PW是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。

产品型号 :VTC-16-PW

上架时间 :2019-08-19

重量:20 kg

产品简述 产品详情 产品视频 留言咨询

       VTC-16-PW是一款小型粉末包覆系统,主要有2英寸磁控溅射头和振动样品台组成。粉末在振动样品台上振动翻滚,通过溅射在粉末表面进行包覆形成核壳结构。直流磁控溅射适合粉体表面包覆金属材料.射频磁控溅射适合材料表面包覆非金属材料或碳。

 性能指标和基本配置
产品特点

● 可对粉体材料进行表面包覆:采用磁控溅射,溅射时粉体材料在振动样品台上翻滚,达到粉体表面均匀包覆
● 设备小巧可在手套箱内使用,可处理样敏感性材料
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输入电压

220 VAC 50/60Hz

电源输出

● 1600 VDC /250 W
● 最大电流150 mA .

溅射头&样品台

● 2英寸角度可调节溅射头,带有水冷夹层
● 一个手动操作挡板,用于保护靶材
● 溅射头与样品台距离可调节,调节范围为60-100mm
● 设备中配有一循环水冷机(流量16L/min),用于冷却溅射头

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振动样品台

● 振动样品台安装在真空腔体底部
● 样品台振动频率可调节:6-33Hz
● 样品台直径为50mm,粉末放置于样品台上,溅射时粉末振动翻转,对粉体表面进行包覆
● 建议样品量: < 500 mg
● 建议颗粒尺寸: 1 ~ 1000um
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真空腔体 石英腔体尺寸, 165 mm OD. X 150 mm ID x 250 mm H
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控制面板 6英寸控制面板,可显示和设置所有参数,如真空和电流
真空度

● 一个KF25真空接口
● 此系统需要Ar气瓶(上面安装减压阀)(设备中不包含)
● 真空度:
①1.0E-2 Torr(采用机械泵),可溅射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶
② 1.0E-5 Torr(采用分子泵),可溅射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金属靶
● 最大真空度可达到< 4.0E-6 Torr(分子泵系统抽时间12小时,腔体进行烘烤)
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靶材

● 设备中包含一2英寸Cu靶,靶材厚度2.5mm
● 此设备可溅射 Ag, Al, Cr, Ni, Pt, Ti, Sn, Li, Mg,等各种金属靶材
● 可选购射频等离子磁控溅射仪,用于溅射非导电靶材和碳靶
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产品尺寸 1
净重 20 kg
应用注意

警告:
●溅射头与高压电源相连接,操作时必须佩带防护手套
●溅射前必须确保靶材,溅射头,基片和样品台清洁,需要用砂纸和乙醇来清洗,Al或是Ni靶每次使用时都必须清洗和理
●注意:粉末样品必须干燥和分散

认证

1CE认证

保修期 一年保修,终身技术支持。
特别提示:
1.耗材部分如加热元件,石英管,样品坩埚等不包含在内。
2.因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内
点击查看售后服务承诺书。
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