应用范围:OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,特别适合制备多层二维晶体材料。
产品型号:OTF-1200X-II-ZL
上架时间 :2019-07-26
安装尺寸:2400L×600W×1300mm H
OTF-1200X-II-ZL是一款炉管可在炉管内部移动的(在真空气氛保护环境下移动)管式炉,最多可依次移动4个坩埚。特殊的坩埚推送机构,可将坩埚在炉管内推出后再拉回,让坩埚能做往返移动。坩埚移动位置&炉体的温度控制都采用一触摸屏控制。此款设备可进行物理化学混合沉积(HPCVD),快速热蒸发(RTE)等实验,特别适合制备多层二维晶体材料。
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